は行

胚性幹細胞(ES細胞)
動物の発生初期段階である胚盤胞期の胚から作られた幹細胞株のこと。すべての組織に分化する分化多能性を持つため、様々な応用が期待されています。
バイオセンサ
分子認識素子として生体起源の物質を用いた化学センサ。例えば、抗原と抗体の特異的な結合を利用したイムノセンサや相補型DNA同士が結合することを利用したDNAセンサなどがあります。
バイオテンプレート
生体超分子を用いて無機材料を配置したり合成する手法。
発光ダイオード
p型、n型など、二つの半導体の接合部分に電流を流すことで発光する半導体素子のこと。半導体の素材によって発光する色が変化します。LEDとも呼ばれる。
バンドギャップ
半導体中で、電子が占有する最高のエネルギー準位と、電子が非占有となる最低のエネルギー準位の間のエネルギー差のことです。半導体を電子デバイスとして利用する際の重要なパラメータです。
反応障壁
化学反応を引き起こすために越えなければならないエネルギーのことをいいます。
光触媒
光を当てることによって、それ自身は変化しないが、接触している物質の化学反応を引き起こす材料のことです。二酸化チタン(TiO2)などが有名。
微細加工技術
集積化回路を作製する際に基板上に微小な電極などを配置する技術。近年では、バイオテクノロジーの分野にも応用されている。
表面プラズモン
金属表面の自由電子が光電場によって集団的に振動を起こす現象のこと。自由電子の振動によって引き起こされる電場と光電場が共鳴する現象を表面プラズモン共鳴と呼びます。分子吸着を検出するためのセンサーの駆動原理として用いられている他、さまざまな応用機能が提案、実証されています。
ファンデルワールス力
原子核の周りにある電子分布の揺らぎによって原子、分子、イオン間で生じる力のことです。
不均一系(固体)触媒
触媒(しょくばい)とは、特定の化学反応の反応速度を速める物質で、固体のまま直接用いることができる触媒を、不均一系触媒という。
プラズマダメージ
半導体デバイス製造工程においてプラズマプロセスにより入るダメージが大きな問題となっています。ダメージには、(1)物理的なダメージ、(2)電荷蓄積によるダメージ、(3)放射光によるダメージ、の3種類があります。物理的ダメージは基板に入射するエネルギーを持ったイオンの衝撃により基板に欠陥などのダメージが入ることをいいます。電荷蓄積によるダメージはプラズマから基板に入射する電荷(正イオン、電子)が絶縁膜上に蓄積することで、MOSトランジスタにとって極めて重要であるゲート絶縁膜などを絶縁破壊することをいいます。放射光によるダメージは、プラズマから基板に入射する紫外光やX線のような波長の短い放射光が基板に堆積されているシリコン酸化膜注にホール・電子対を生成し、絶縁性を劣化させることをいいます。
プラズモニクス分野
表面プラズモンを積極的に利用することで、金属ナノ構造と光との相互作用に基づく応用技術の開発を目指す研究分野。スピントロニクスとともに、次世代のエレクトロニクス技術として期待されています。
分子線エピタキシー法
高品質な単結晶薄膜を作製することができる手法のひとつ。超高真空槽内に設置したいくつかの蒸着源(材料)を加熱等により蒸発させ、対向した単結晶基板上に堆積させることで、原子レベルで制御された高品質単結晶薄膜が作製できます。
分数量子ホール効果
2次元に閉じ込められた電子に強い磁場を印加した場合に、電流と磁場に垂直方向の電気抵抗(ホール抵抗)が、物質に依存せずに一定の値になり、量子力学の基本定数を用いた値の分数倍となる現象です。
ペロブスカイト酸化物
ABO3の化学式で表され、BO6酸素八面体の三次元ネットワークの空隙にAサイト原子が充填された構造を持ちます。たとえばSrTiO3は理想的なペロブスカイト構造を有する立方晶であり、AO層とBO2層が交互に重なった結晶となっています。