共通機器ユニット
“AIMR共通機器の管理と運用”ならびに”研究機器に関する研究者支援”が我々の業務です。
共通機器の利用予約について
- 予約用E-mail address: aimr_ceu@wpi-aimr.tohoku.ac.jp
- 以下の機器のご利用には使用料金がかかります。
- FE-SEM: JEOL JSM-7800F (¥774/h)
- XRD & Laue Camera: RIGAKU, SmartLab (¥950/h)
- EB Lithography: ELIONIX INC., ELS-3700 (¥1,936/h)
- 3Dプリンタ: Stratasys Ltd., uPrint SE (¥47/h)
- スパッタ装置: ULVAC, QAM-4-S (¥537/h)
- 熱分析装置: Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus (¥179/h)
- FT-IR; JASCO, FT/IR-6600 (¥749/h)
- 比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4 (¥385/h)
- UV-Vis-NIR; JASCO, V-770TWK (¥353/h)
- 太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0 (¥340/h)
- AFM: Park NX-10 (¥513/h)
- FL: Hitachi High-Technologies, F-2700 (¥177/h)
- 共通機器等使用内規
- 共通利用機器等及び使用料に関する内規
- 共通機器をご利用する際は、必要に応じて「共通利用機器使用申請書・実績報告書」をご提出ください。
提出先：AIMR共通機器ユニット 熊代 - 共通利用機器使用申請書・実績報告書
- 運転状況（Google CalendarおよびPDFファイル参照）を確認の上、管理者にE-mailで連絡ください。管理者が日程を調整し、回答します。
| 項目 | 例 |
|---|---|
| 希望日時 | March 5, 10:00-6, 19:00 |
| 利用者名およびグループ名 | Common Equipment Unit, Ryotaro Kumashiro |
- 初回使用時は共通機器ユニット担当者が測定をサポートします（平日9:00から20:00前後まで対応可能です。ご希望に応じ何度でも致します。）
- 主たる管理者：
- FE-SEM、EB Litho.、Laser Raman、PL-QY、3Dプリンタ、FT-IR、太陽電池・OLED特性評価装置、UV-Vis-NIR、比表面積・細孔分布測定装置、FL
熊代良太郎 (Ryotaro Kumashiro);ryotaro.kumashiro.c2@tohoku.ac.jp, 内線6162 - XRD、Laue Camera、熱分析装置、スパッタ装置、AFM
齊藤今朝美 (Kesami Saito); kesami.saito.b8@tohoku.ac.jp, 内線6162
- FE-SEM、EB Litho.、Laser Raman、PL-QY、3Dプリンタ、FT-IR、太陽電池・OLED特性評価装置、UV-Vis-NIR、比表面積・細孔分布測定装置、FL
- Room2A: 平日夜間（18:30から翌朝7:30まで）および土日祝日は入口が施錠されます。カードキー（AIMR本館入口と共通）で開錠してください。
- Room4B: 終日入口が施錠されています。カードキー（AIMR本館入口と共通）で開錠してください。
共通機器運転状況
Room 2A:
- 【課金対象】電界放出型走査電子顕微鏡 (FE-SEM); JEOL, JSM-7800F
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】電子ビーム描画装置 (EB Litho.); ELIONIX INC., ELS-3700
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】X線回折装置 (XRD)①; RIGAKU, SmartLab 9MTP
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】X線回折装置 (XRD)②; RIGAKU, SmartLab 9KAB
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】X線回折装置 (Laue Camera); RIGAKU, RASCO 3M
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】スパッタ装置; ULVAC, QAM-4-S
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】原子間力顕微鏡（AFM）; Park NX-10
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 顕微レーザラマン分光装置; HORIBA, LabRAM HR-800
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 熱分析装置; RIGAKU, Thermo plus EvoII
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】熱分析装置; Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- PL量子収率測定装置; HAMAMATSU Photonics KK, Quantaurus-QY
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】3Dプリンタ; Stratasys Ltd., uPrint SE
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】フーリエ変換赤外分光光度計（FT-IR）; JASCO, FT/IR-6600
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】紫外可視近赤外分光光度計(UV-Vis-NIR); JASCO, V-770TWK
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【課金対象】分光蛍光光度計 (FL)； Hitachi High-Technologies F-2700
- 運転状況 >> 【2月】, and 【3月】
- 【阿尻研究室保有共通利用装置】原子吸光分析装置; analytikjena, contrAA 700
- ご利用可能です。詳細はご連絡ください。
- 【高橋研究室・谷垣研究室保有共通利用装置】工作機械
- 随時利用可能：共通機器ユニットスタッフに一声お掛けください。
- 共通利用一般設備・機器; プラチナコーター、カーボンコータ―、プラズマクリーナー、光学顕微鏡、実体顕微鏡、真空デシケータ、乾燥器、真空排気ユニット、インパクトドリルドライバー、各種工具など
- 随時利用可能：共通機器ユニットスタッフに一声お掛けください。
- 超純水製造装置・製氷機
- 随時利用可能（本館2F 共通機器室でご利用いただけます）
- 詳細はご連絡ください。
- 卓上型旋盤（高橋研究室）
- 卓上型フライス盤（高橋研究室）
- 卓上型ボール盤（谷垣研究室）
- 各種工具：ワイヤーカッター, バール, クランプメータ, トルクスドライバーなど
- 超純水製造装置・製氷機
- AIMR共通機器の管理と運用
- AIMR共通機器室に設置された共通機器の管理ならびに運用
- AIMR共通機器ネットワーク
- AIMR研究者から供出された共通利用機器の利用調整と支援
- 学内共通機器の案内
- 学内共通機器・共同利用施設の紹介と利用支援 (使用可能機器の検索、利用申請手続きの代行、機器利用時の実験サポート
- 学内関連施設
- テクニカルサポートセンター (TSC)、金属材料研究所材料分析研究コア、多元物質科学研究所 Central Analytical Facility、電気通信研究所 研究基盤技術センター、大学院工学研究科附属マイクロ・ナノマシニング研究教育センター、ほか。
- 所在地
- AIMR本館, 2F, room2A, 4B
- スタッフ
- 特任准教授（TSC） 熊代 良太郎 (KUMASHIRO, Ryotaro)
- 技術一般職員 齊藤 今朝美 (SAITO, Kesami)
- Tel:
- 022-217-6162
- FAX:
- 022-217-5129
- Email:
- aimr_ceu@wpi-aimr.tohoku.ac.jp
Room 4B:
Others:
共通機器 装置詳細
Room 2A
【課金対象】電界放出型走査電子顕微鏡 (FE-SEM); JEOL, JSM-7800F
仕様
| 倍率 | : | 25 - 1,000,000 | |
| 加速電圧 | : | 0.01 - 30kV | |
| 電子銃 | : | インレンズ型ショットキー電界放出型電子銃 | |
| 対物レンズ | : | スーパーハイブリッドレンズ（セミインレンズタイプ） | |
| 検出器 | : | 下方検出器 (LED) | |
| : | 上方検出器 (UED) | ||
| : | 上方二次電子検出器 (USD) | ||
| : | 反射電子検出器 (SRBE) | ||
| : | 走査型透過電子検出器 (STEM) | ||
| エネルギー分散型X線分光器 (EDS/EDX) | : | Oxford Instruments, X-Max SDD Detector | |
| その他オプション | : | Arイオンビームクリーナー |
【課金対象】電子ビーム描画装置 (EB Litho.); ELIONIX INC., ELS-3700
仕様
| 加速電圧 | : | 1 to 30kV | |
| 電子銃 | : | LaB6熱電子銃 | |
| 最小線幅 | : | 100nm | |
| その他オプション | : | オープンクリーンベンチ（局所クリーンゾーン生成装置、AIMR本館内随所利用可能） |
【課金対象】X線回折装置 (XRD/ Laue Camera); RIGAKU, SmartLab 9MTP/RASCO 3M
仕様
| SmartLab① 9MTP (XRD) | X線発生装置 | : | 9kW回転対陰極式（Cuターゲット） |
|---|---|---|---|
| ゴニオメータ | : | θ－θ型試料水平高精度ゴニオメータ、インプレーンゴニオメータ | |
| 試料ステージ | : | 多目的薄膜ステージ（χクレードルステージ）、キャピラリー回転試料台 | |
| 検出器 | : | シンチレーションカウンター、1次元高速検出器、高速2次元ピクセル半導体X線検出器 | |
| SmartLab② 9KAB (XRD) | X線発生装置 | : | 9kW回転対陰極型（Cuターゲット） |
| ゴニオメータ | : | θ－θ型試料水平高精度ゴニオメータ | |
| 光学系 | : | 対称ヨハンソン型Ge(111)湾曲結晶Kα1光学系 | |
| 試料ステージ | : | 多目的試料ステージ、キャピラリー回転試料台 | |
| 検出器 | : | ハイブリッド型多次元検出器（0,1,2次元） HiPix-3000 | |
| RASCO 3M (Laue Camera) | X線発生装置 | : | 3kW（Wターゲット） |
| 光学系 | : | 背面反射ラウエ法光学系 | |
| 試料ステージ | : | ユニバーサルマウントレール | |
| 検出器 | : | 冷却CCDデジタルカメラ |
【課金対象】スパッタ装置; ULVAC, QAM-4-S
仕様
| スパッタ方式 | : | DC, RF magnetron sputter | |
| 装置構成 | : | スパッタ室×2, ロードロック室 | |
| カソード数 | : | 7 | |
| ターゲットサイズ | : | Φ2 inch | |
| 到達真空度 | : | ≦1.0×10-5Pa | |
| 基板加熱温度 | : | max. 500℃ | |
| 基板サイズ | : | max. Φ4 inch | |
| ターゲット―基板間距離 | : | 150mm | |
| その他オプション | : | 表面粗さ測定器 |
【課金対象】太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0
仕様
| 印過電圧 | : | ±60V（IV） | |
| 光源付きサンプルステージ | |||
| オプション | : | 分光モジュール |
【課金対象】原子間力顕微鏡（AFM）; Park NX-10
仕様
スキャナー
| XY Scanner | : | Scan 100μm×100μm, Resolution 0.05nm | |
| Z Scanner | : | Scan range 15μm, Resolution 0.015nm, Resonant frequency >9kHz |
ステージ
| Sample size | : | 50mm×50mm×UpTo 20mm | |
| XY stage travel range | : | 20mm×20mm | |
| Sample weight | : | <500g |
AFMモード
| Non-Contact AFM |
Room 4B
顕微レーザラマン分光装置; HORIBA, LabRAM HR-800
仕様
| 励起波長 | : | 532nm（YAG）、633nm（He-Ne）、785nm（semiconductor） | |
| 空間分解能 | : | 約1µm | |
| スペクトル分解能 | : | 0.35cm-1 | |
| その他オプション | : | インターロック付試料室カバー | |
| : | 溶液測定用マルチパスセルホルダ | ||
| : | 長焦点対物レンズ（50x、100x） |
熱分析装置; RIGAKU, Thermo plus EvoII
仕様
| TG8120 (TG-DTA) | 常用最高温度 | : | 1350℃ |
|---|---|---|---|
| 最大昇温速度 | : | 100℃/min | |
| TG測定レンジ | : | ±0.1～±250mg/F.S. | |
| DTA測定レンジ | : | ±1.5～±1000μV/F.S. | |
| DSC8230 (低温型DSC) | 常用測定温度範囲 | : | ‐130～500℃ |
| 最大昇温速度 | : | 100℃/min | |
| 最大測定レンジ | : | ±100mW | |
| DSC8270(高温型DSC) | 常用最高温度 | : | 1500℃ |
| 最大昇温速度 | : | 20℃/min | |
| 最大測定レンジ | : | ±400mW | |
| サンプルパン | アルミニウム、アルミナ、白金、ステンレス（高圧） | ||
【課金対象】熱分析装置（DSC）; Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus
仕様
| DSC測定温度範囲 | : | 室温-1,000℃ | |
| 熱量感度 | : | 7.0μV/mW | |
| 真空排気システム |
PL量子収率測定装置; HAMAMATSU Photonics KK, Quantaurus-QY
仕様
| PL測定波長範囲 | : | 300－950nm | |
| 励起波長範囲 | : | 250－850nm | |
| 試料形態 | : | 粉末、薄膜（基板）、溶液 |
【課金対象】3Dプリンタ; Stratasys Ltd., uPrint SE
仕様
| 最大ビルドサイズ | : | 203W×152L×152H | |
| 素材 | : | ABS（アイボリー） | |
| 層厚さ | : | 0.254mm | |
| 入力ファイル形式 | : | STLフォーマット |
【課金対象】フーリエ変換赤外分光光度計（FT-IR）; JASCO, FT/IR-6600
仕様
| 測定波数範囲 | : | 7,800-350㎝-1 | |
| 最高分解能 | : | 0.4㎝-1 | |
| SN比 | : | 4500:1 | |
| 検出器 | : | TGS type | |
| オプション | : | １回反射型ATRユニット |
【課金対象】紫外可視近赤外分光光度計(UV-Vis-NIR); JASCO, V-770TWK
仕様
| 波長範囲 | : | 190-2700cm-1 | |
| 光学系 | : | シングルモノクロメータ、ダブルビーム | |
| 検出器 | : | 光電子増倍管（紫外可視）、冷却型PbS光導電素子（近赤外） | |
| オプション | : | 積分球ユニット |
【課金対象】比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4
仕様
| 比表面積範囲 | : | >0.01m2/g | |
| 細孔径範囲 | : | 0.35-400nm | |
| 4検体同時・独立測定 | |||
| オプション | : | 前処理（真空熱処理）装置 |
【課金対象】分光蛍光光度計 (FL)； Hitachi High-Technologies F-2700
仕様
スキャナー
| 光源 | : | キセノン（150W） | |
| 感度 | : | S/N 800以上（RMS） | |
| スリット | : | 2.5、5、10、20nm | |
| 走査速度 | : | 60-3,000min/min |
Others
形状解析レーザ顕微鏡； KEYENCE VK-X1000/1100
仕様
| レーザー光源 | : | 紫色半導体レーザ404nm | |
| 高さ測定表示分解能 | : | 0.5nm | |
| 幅測定表示分解能 | : | 1nm | |
| 総合倍率 | : | ～28800倍 | |
| 手動ステージ | : | 70mm×70mm(XY)、72mm(Z) |
【阿尻研究室保有共通利用装置】原子吸光分析装置; analytikjena, contrAA 700
【高橋研究室・谷垣研究室保有共通利用装置】工作機械
技術相談：齊藤技術一般職員が金属加工などの技術的な相談を受けます。
共通利用一般設備・機器
| カテゴリー | 製品名 | スペック |
|---|---|---|
| プラチナコーター | JEOL JEC-3000FC | マグネトロン型スパッタ アルゴンパージ可能 |
| カーボンコータ― | JEOL JEC-560 | 抵抗加熱蒸着 |
| プラズマクリーナー | メイワフォーシス SEDE-GE | グロー放電式 アルゴンパージ可能 |
| 光学顕微鏡 | オリンパスBX51 | 画像読取PC |
| 実体顕微鏡 | オリンパスSZ61 | 液晶モニタ |
| 真空デシケータ | 260W×180L×260H, ドライ真空ポンプ |
|
| 乾燥器 | ～300℃ | |
| 真空排気ユニット | 70L-TMP+167L-RP, ICF114/NW40/NW25 |
超音波洗浄器 | バスケット |
| インパクトドリルドライバー | パナソニック マルチハンマードリル | |
| オスミウムコーター | メイワフォーシス Neocネオオスミウムコータ | プラズマCVDガス蒸着 |
| クリーンゾーン生成装置 | 興研オープンクリーンベンチKOACH C 900-F | ISOクラス1、清浄空間W900xH700xL2300mm |
| 冷凍庫 | 内容積38L、-18℃ | |
| グローブボックス | UNICO UL-800A | 大気圧型、メインボックス外寸W800xH725xL650mm、パスボックス付 |
その他の機器
