共通機器ユニット

“AIMR共通機器の管理と運用”ならびに”研究機器に関する研究者支援”が我々の業務です。

共通機器の利用予約について

  • 予約用E-mail address: aimr_ceu@wpi-aimr.tohoku.ac.jp
  • 以下の機器のご利用には使用料金がかかります。
    • FE-SEM: JEOL JSM-7800F (¥774/h)
    • XRD & Laue Camera: RIGAKU, SmartLab (¥950/h)
    • EB Lithography: ELIONIX INC., ELS-3700 (¥1,936/h)
    • 3Dプリンタ: Stratasys Ltd., uPrint SE (¥47/h)
    • スパッタ装置: ULVAC, QAM-4-S (¥537/h)
    • 熱分析装置: Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus (¥179/h)
    • FT-IR; JASCO, FT/IR-6600 (¥749/h)
    • 比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4 (¥385/h)
    • UV-Vis-NIR; JASCO, V-770TWK (¥353/h)
    • 太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0 (¥340/h)
    • AFM: Park NX-10 (¥513/h)
    • FL: Hitachi High-Technologies, F-2700 (¥177/h)
  • 運転状況(Google CalendarおよびPDFファイル参照)を確認の上、管理者にE-mailで連絡ください。管理者が日程を調整し、回答します。
項目
希望日時 March 5, 10:00-6, 19:00
利用者名およびグループ名 Common Equipment Unit, Ryotaro Kumashiro
  • 初回使用時は共通機器ユニット担当者が測定をサポートします(平日9:00から20:00前後まで対応可能です。ご希望に応じ何度でも致します。)
  • 主たる管理者:
    • FE-SEM、EB Litho.、Laser Raman、PL-QY、3Dプリンタ、FT-IR、太陽電池・OLED特性評価装置、UV-Vis-NIR、比表面積・細孔分布測定装置、FL
      熊代良太郎 (Ryotaro Kumashiro);ryotaro.kumashiro.c2@tohoku.ac.jp, 内線6162
    • XRD、Laue Camera、熱分析装置、スパッタ装置、AFM
      齊藤今朝美 (Kesami Saito); kesami.saito.b8@tohoku.ac.jp, 内線6162
  • Room2A: 平日夜間(18:30から翌朝7:30まで)および土日祝日は入口が施錠されます。カードキー(AIMR本館入口と共通)で開錠してください。
  • Room4B: 終日入口が施錠されています。カードキー(AIMR本館入口と共通)で開錠してください。

共通機器運転状況

Room 2A:

【課金対象】電界放出型走査電子顕微鏡 (FE-SEM); JEOL, JSM-7800F
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】電子ビーム描画装置 (EB Litho.); ELIONIX INC., ELS-3700
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】X線回折装置 (XRD)①; RIGAKU, SmartLab 9MTP
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】X線回折装置 (XRD)②; RIGAKU, SmartLab 9KAB
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】X線回折装置 (Laue Camera); RIGAKU, RASCO 3M
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】スパッタ装置; ULVAC, QAM-4-S
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】原子間力顕微鏡(AFM); Park NX-10
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

Room 4B:

顕微レーザラマン分光装置; HORIBA, LabRAM HR-800
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

熱分析装置; RIGAKU, Thermo plus EvoII
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】熱分析装置; Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

PL量子収率測定装置; HAMAMATSU Photonics KK, Quantaurus-QY
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】3Dプリンタ; Stratasys Ltd., uPrint SE
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR); JASCO, FT/IR-6600
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】紫外可視近赤外分光光度計(UV-Vis-NIR); JASCO, V-770TWK
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

【課金対象】分光蛍光光度計 (FL); Hitachi High-Technologies F-2700
運転状況 >> 【2月】, and 【3月】

Others:

【阿尻研究室保有共通利用装置】原子吸光分析装置; analytikjena, contrAA 700
ご利用可能です。詳細はご連絡ください。

【高橋研究室・谷垣研究室保有共通利用装置】工作機械
随時利用可能:共通機器ユニットスタッフに一声お掛けください。

共通利用一般設備・機器; プラチナコーター、カーボンコータ―、プラズマクリーナー、光学顕微鏡、実体顕微鏡、真空デシケータ、乾燥器、真空排気ユニット、インパクトドリルドライバー、各種工具など
随時利用可能:共通機器ユニットスタッフに一声お掛けください。

超純水製造装置・製氷機
随時利用可能(本館2F 共通機器室でご利用いただけます)

共通機器 装置詳細

Room 2A

【課金対象】電界放出型走査電子顕微鏡 (FE-SEM); JEOL, JSM-7800F

仕様

倍率 : 25 - 1,000,000
加速電圧 : 0.01 - 30kV
電子銃 : インレンズ型ショットキー電界放出型電子銃
対物レンズ : スーパーハイブリッドレンズ(セミインレンズタイプ)
検出器 : 下方検出器 (LED)
: 上方検出器 (UED)
: 上方二次電子検出器 (USD)
: 反射電子検出器 (SRBE)
: 走査型透過電子検出器 (STEM)
エネルギー分散型X線分光器 (EDS/EDX) : Oxford Instruments, X-Max SDD Detector
その他オプション : Arイオンビームクリーナー

【課金対象】電子ビーム描画装置 (EB Litho.); ELIONIX INC., ELS-3700

仕様

加速電圧 : 1 to 30kV
電子銃 : LaB6熱電子銃
最小線幅 : 100nm
その他オプション : オープンクリーンベンチ(局所クリーンゾーン生成装置、AIMR本館内随所利用可能)

【課金対象】X線回折装置 (XRD/ Laue Camera); RIGAKU, SmartLab 9MTP/RASCO 3M

仕様

SmartLab① 9MTP (XRD) X線発生装置 : 9kW回転対陰極式(Cuターゲット)
ゴニオメータ : θ-θ型試料水平高精度ゴニオメータ、インプレーンゴニオメータ
試料ステージ : 多目的薄膜ステージ(χクレードルステージ)、キャピラリー回転試料台
検出器 : シンチレーションカウンター、1次元高速検出器、高速2次元ピクセル半導体X線検出器
SmartLab② 9KAB (XRD) X線発生装置 : 9kW回転対陰極型(Cuターゲット)
ゴニオメータ : θ-θ型試料水平高精度ゴニオメータ
光学系 : 対称ヨハンソン型Ge(111)湾曲結晶Kα1光学系
試料ステージ : 多目的試料ステージ、キャピラリー回転試料台
検出器 : ハイブリッド型多次元検出器(0,1,2次元) HiPix-3000
RASCO 3M (Laue Camera) X線発生装置 : 3kW(Wターゲット)
光学系 : 背面反射ラウエ法光学系
試料ステージ : ユニバーサルマウントレール
検出器 : 冷却CCDデジタルカメラ

【課金対象】スパッタ装置; ULVAC, QAM-4-S

仕様

スパッタ方式 : DC, RF magnetron sputter
装置構成 : スパッタ室×2, ロードロック室
カソード数 : 7
ターゲットサイズ : Φ2 inch
到達真空度 : ≦1.0×10-5Pa
基板加熱温度 : max. 500℃
基板サイズ : max. Φ4 inch
ターゲット―基板間距離 : 150mm
その他オプション : 表面粗さ測定器

【課金対象】太陽電池・OLEDs特性評価装置; FLUXiM, Paios 3.0

仕様

印過電圧 : ±60V(IV)
光源付きサンプルステージ
オプション : 分光モジュール

【課金対象】原子間力顕微鏡(AFM); Park NX-10

仕様

スキャナー

XY Scanner : Scan 100μm×100μm, Resolution 0.05nm
Z Scanner : Scan range 15μm, Resolution 0.015nm, Resonant frequency >9kHz

ステージ

Sample size : 50mm×50mm×UpTo 20mm
XY stage travel range : 20mm×20mm
Sample weight : <500g

AFMモード

Non-Contact AFM

Room 4B

顕微レーザラマン分光装置; HORIBA, LabRAM HR-800

仕様

励起波長 : 532nm(YAG)、633nm(He-Ne)、785nm(semiconductor)
空間分解能 : 約1µm
スペクトル分解能 : 0.35cm-1
その他オプション : インターロック付試料室カバー
: 溶液測定用マルチパスセルホルダ
: 長焦点対物レンズ(50x、100x)

熱分析装置; RIGAKU, Thermo plus EvoII

仕様

TG8120 (TG-DTA) 常用最高温度 : 1350℃
最大昇温速度 : 100℃/min
TG測定レンジ : ±0.1~±250mg/F.S.
DTA測定レンジ : ±1.5~±1000μV/F.S.
DSC8230 (低温型DSC) 常用測定温度範囲 : ‐130~500℃
最大昇温速度 : 100℃/min
最大測定レンジ : ±100mW
DSC8270(高温型DSC) 常用最高温度 : 1500℃
最大昇温速度 : 20℃/min
最大測定レンジ : ±400mW
サンプルパン アルミニウム、アルミナ、白金、ステンレス(高圧)

【課金対象】熱分析装置(DSC); Netzsch, DSC404F3-ST Pegasus

仕様

DSC測定温度範囲 : 室温-1,000℃
熱量感度 : 7.0μV/mW
真空排気システム

PL量子収率測定装置; HAMAMATSU Photonics KK, Quantaurus-QY

仕様

PL測定波長範囲 : 300-950nm
励起波長範囲 : 250-850nm
試料形態 : 粉末、薄膜(基板)、溶液

【課金対象】3Dプリンタ; Stratasys Ltd., uPrint SE

仕様

最大ビルドサイズ : 203W×152L×152H
素材 : ABS(アイボリー)
層厚さ : 0.254mm
入力ファイル形式 : STLフォーマット
  • 詳細はご連絡ください。

【課金対象】フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR); JASCO, FT/IR-6600

仕様

測定波数範囲 : 7,800-350㎝-1
最高分解能 : 0.4㎝-1
SN比 : 4500:1
検出器 : TGS type
オプション : 1回反射型ATRユニット

【課金対象】紫外可視近赤外分光光度計(UV-Vis-NIR); JASCO, V-770TWK

仕様

波長範囲 : 190-2700cm-1
光学系 : シングルモノクロメータ、ダブルビーム
検出器 : 光電子増倍管(紫外可視)、冷却型PbS光導電素子(近赤外)
オプション : 積分球ユニット

【課金対象】比表面積・細孔分布測定装置; Quantachrome Instruments, QUADRASORB EVO4

仕様

比表面積範囲 : >0.01m2/g
細孔径範囲 : 0.35-400nm
4検体同時・独立測定
オプション : 前処理(真空熱処理)装置

【課金対象】分光蛍光光度計 (FL); Hitachi High-Technologies F-2700

仕様

スキャナー

光源 : キセノン(150W)
感度 : S/N 800以上(RMS)
スリット : 2.5、5、10、20nm
走査速度 : 60-3,000min/min

Others

形状解析レーザ顕微鏡; KEYENCE VK-X1000/1100

仕様

レーザー光源 : 紫色半導体レーザ404nm
高さ測定表示分解能 : 0.5nm
幅測定表示分解能 : 1nm
総合倍率 : ~28800倍
手動ステージ : 70mm×70mm(XY)、72mm(Z)

【阿尻研究室保有共通利用装置】原子吸光分析装置; analytikjena, contrAA 700

【高橋研究室・谷垣研究室保有共通利用装置】工作機械

  • 卓上型旋盤(高橋研究室)
  • 卓上型フライス盤(高橋研究室)
  • 卓上型ボール盤(谷垣研究室)

技術相談:齊藤技術一般職員が金属加工などの技術的な相談を受けます。

共通利用一般設備・機器

カテゴリー 製品名 スペック
プラチナコーター JEOL JEC-3000FC マグネトロン型スパッタ
アルゴンパージ可能
カーボンコータ― JEOL JEC-560 抵抗加熱蒸着
プラズマクリーナー メイワフォーシス SEDE-GE グロー放電式
アルゴンパージ可能
光学顕微鏡 オリンパスBX51 画像読取PC
実体顕微鏡 オリンパスSZ61 液晶モニタ
真空デシケータ 260W×180L×260H,
ドライ真空ポンプ
乾燥器 ~300℃
真空排気ユニット 70L-TMP+167L-RP,
ICF114/NW40/NW25
超音波洗浄器 バスケット
インパクトドリルドライバー パナソニック マルチハンマードリル
オスミウムコーター メイワフォーシス Neocネオオスミウムコータ プラズマCVDガス蒸着
クリーンゾーン生成装置 興研オープンクリーンベンチKOACH C 900-F ISOクラス1、清浄空間W900xH700xL2300mm
冷凍庫 内容積38L、-18℃
グローブボックス UNICO UL-800A 大気圧型、メインボックス外寸W800xH725xL650mm、パスボックス付

その他の機器

  • 各種工具:ワイヤーカッター, バール, クランプメータ, トルクスドライバーなど
  • 超純水製造装置・製氷機

共通機器ユニットの業務

AIMR共通機器の管理と運用
AIMR共通機器室に設置された共通機器の管理ならびに運用
AIMR共通機器ネットワーク
AIMR研究者から供出された共通利用機器の利用調整と支援
学内共通機器の案内
学内共通機器・共同利用施設の紹介と利用支援 (使用可能機器の検索、利用申請手続きの代行、機器利用時の実験サポート
学内関連施設
テクニカルサポートセンター (TSC)、金属材料研究所材料分析研究コア、多元物質科学研究所 Central Analytical Facility、電気通信研究所 研究基盤技術センター、大学院工学研究科附属マイクロ・ナノマシニング研究教育センター、ほか。

お問い合わせ

所在地
AIMR本館, 2F, room2A, 4B
スタッフ
特任准教授(TSC) 熊代 良太郎 (KUMASHIRO, Ryotaro)
技術一般職員 齊藤 今朝美 (SAITO, Kesami)
Tel:
022-217-6162
FAX:
022-217-5129
Email:
aimr_ceu@wpi-aimr.tohoku.ac.jp